반응형 반도체공정2 SiO2(산화막)을 사용하는 이유를 알아보자! 안녕하세요. 베어훈릴스입니다. 우리는 반도체를 만들 때, 해변에서 흔하게 볼 수 있는 Si을 이용해서 기판을 만들어냅니다. 기판이라는 것은 기초가 되는 판으로서, 각종 공정이 이루어지는 기초라고 생각하시면 쉽게 생각하실 수 있을 것입니다. 어쨌든, 우리는 Si을 기판으로 사용하는 많은 이유가 있습니다. 그 이유를 살펴보자면, Si을 반도체 기판으로 사용하는 이유 1. 원료가 지구상에 아주 풍부한 물질이기 때문에 구하기 용이하다. 2. 양질의 산화막을 가진다. 3. 가격이 저렴하다. 4. 안정적인 온도 특성을 갖는다. 5. 반도체 에너지 갭이 1.12 eV으로 진성반도체 특성에서 절연 특성이 우수하다. 위와 같은 이유 때문에 Si을 반도체 기판으로 사용한답니다. 그렇다면 위와 같은 이유 중 오늘의 토픽은 .. 2022. 2. 12. 반도체 집적 공정(feat. 8대 공정 - 식각 공정 기초) 안녕하세요. 베어훈릴스입니다. 오늘은 제 전공분야인 재료공학과 관련된 얘기를 한 번 해볼까해요. 저번 학기에 박막 및 재료라는 과목을 수강하였습니다. 박막 및 재료라는 과목에서 제가 배운 것은 반도체 공정과 박막 공정 및 재료입니다. 이러한 내용을 차근차근 처음부터 정리하면, 이러한 과목을 수강하시거나 정보를 원하시는 분께 큰 도움이 될 것 같아서 하나부터 열까지 차근차근 정리해보고자 합니다. 그러면 이제부터 시작해보도록 하겠습니다. 우선 반도체 공정 중 cleaning 방법에 대해 한 번 알아봅시다. Photo 공정을 위해서는 Photo resist를 박막위에 도포하는 것은 관련 전공자라면 모두들 알고 계실거라 생각합니다. 여기서 Photo resist는 용매와 용질 그리고 감광제 등으로 이루어져 있습.. 2022. 2. 11. 이전 1 다음 반응형
