반응형 sputtering1 PVD(Physical Vapor Deposition)에 대해 알아보자!(feat. 반도체 공정) 안녕하세요. 훈릴스입니다. 오늘은 PVD(Physical Vapor Deposition)에 대해 알아보는 시간을 가져보고자 합니다. 반도체 공정을 학습하시는 분이라면 정말 많이 들어보셨을 용어라고 생각됩니다. deposition 과정의 목표는 박막의 형성과 성장에 있어서 source에서 기판까지 원자를 조절하는 것입니다. 그래서 물리적인 도포 방법을 반도체 공정에서는 사용하는데, PVD는 다양한 박막 형성 방법이 존재합니다. evaporation은 원자들이 열에 의해서 조절되는 것이고 sputtering은 이온을 통해서 조절하는 방법입니다. 이에 대해서 알아보는 시간을 가져보겠습니다. Evaportion - evaporation을 통해서 박막을 도포할 때는 진공에서 진행됩니다. 진공은 저기압에 해당하고,.. 2022. 2. 12. 이전 1 다음 반응형